Carrier gas‐free chemical vapor deposition technique for in situ preparation of high quality YBa2Cu3O7−δ thin films
- Publikationstyp:
- Zeitschriftenaufsatz
- Metadaten:
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- Autoren
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B Schulte
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M Maul
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W Becker
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EG Schlosser
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S Elschner
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P Häussler
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Hermann Adrian
- Sammlungen
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- ISSN
- 0003-6951
- Ausgabe der Veröffentlichung
- 7
- Zeitschrift
- Applied physics letters
- Schlüsselwörter
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- Sprache
- eng
- Paginierung
- Seiten: 869 - 871
- Datum der Veröffentlichung
- 1991
- Herausgeber URL
- http://dx.doi.org/10.1063/1.105263
- Datum der Datenerfassung
- 2020
- Datum, an dem der Datensatz öffentlich gemacht wurde
- 2020
- Zugang
- Public
- Titel
- Carrier gas‐free chemical vapor deposition technique for in situ preparation of high quality YBa2Cu3O7−δ thin films
- Ausgabe der Zeitschrift
- 59
Datenquelle: METADATA.UB
- Andere Metadatenquellen:
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